高密度等离子体刻蚀机(纳米区域中心)
所属子系统： |
纳米科学大型仪器区域中心 |
地区： |
北京 |
设备型号： |
ICP-98A |
制造商名称： |
中国科学院微电子研究所 |
启用日期： |
1998-01-01 00:00:00 |
仪器金额： |
0 |
所属单位： |
中国科学院微电子研究所 |
仪器主要功能： |
刻蚀熔石英、介质材料、金、光刻胶。反应气体：SF6、CHF3、O2、Ar、He源RF功率：0～1500W，13.56MHz偏置RF功率0～500W,13.56MHz大小：2”～6”硅片，4”× 4”，（6”×6”可选）以及碎片本底真空：2×10-2Pa刻蚀材料：熔石英、介质材料、金、光刻胶。 |
分析项目说明： |
（1）由专人操作，不接受自助使用预约；（2）价格：开机：300.00元；ICP刻蚀金属：Au：100.00元/100nm；Ti：150.00元/100nm；SiO2：ICP：150.00元/100nm；RIE：120.00元/100nm；Si：ICP：10.00元/1000nm；Poly-Si：ICP：100.00元/100nm；打胶：100.00元/炉。（3）原则上，不接受金属刻蚀，如因项目需要，有特殊需要的，可能由此产生的金属污染，应由申请加工方自己负责，并请申请前仔细考虑；（4）仅周五对外。 |